% 99,8 titanio purua 7 borobilak sputtering helburuak ti aleazio helburua estaldura fabrika hornitzailearentzat
Produktuaren parametroak
| Produktuaren izena | Titaniozko helburua pvd estaltzeko makinarako |
| Kalifikazioa | Titanioa (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7,GR12)Aleazio helburua: Ti-Al, Ti-Cr, Ti-Zr etab |
| Jatorria | Baoji hiria Shaanxi probintzia Txina |
| Titanio edukia | ≥99,5 (%) |
| Ezpurutasun edukia | <0,02 (%) |
| Dentsitatea | 4,51 edo 4,50 g/cm3 |
| Estandarra | ASTM B381;ASTM F67, ASTM F136 |
| Tamaina | 1. Helburu biribila: Ø30--2000mm, lodiera 3.0mm--300mm;2. Plaka Helburua: Luzera: 200-500mm Zabalera: 100-230mm Lodiera: 3--40mm;3. Hodiaren helburua: Dia:30-200mm Lodiera:5-20mm Luzera:500-2000mm;4. Pertsonalizatua dago eskuragarri |
| Teknika | Forjatua eta CNC mekanizatua |
| Aplikazio | Erdieroaleen bereizketa, Filma estaltzeko materialak, Biltegiratze-elektrodoen estaldura, Sputtering estaldura, Azaleko estaldura, Beira estalduraren industria. |
Titanio-helburuaren eskakizun kimikoak
| ASTM B265 | GB/T 3620.1 | JIS H4600 | Elemental edukia (≤% pisua) | ||||||
| N | C | H | Fe | O | Beste batzuk | ||||
| Titanio hutsa | Gr.1 | TA1 | Klasea 1 | 0,03 | 0,08 | 0,015 | 0,20 | 0,18 | / |
| Gr.2 | TA2 | Klasea 2 | 0,03 | 0,08 | 0,015 | 0.30 | 0,25 | / | |
| TitanioaAleazioa | Gr.5 | TC4Ti-6Al-4V | Klasea 60 | 0,05 | 0,08 | 0,015 | 0,40 | 0.2 | Al:5,5-6,75 V:3,5-4,5 |
| Gr.7 | TA9 | Klasea 12 | 0,03 | 0,08 | 0,015 | 0.30 | 0,25 | Pd:0,12-0,25 | |
| 12.Gr | TA10 | 60E klasea | 0,03 | 0,08 | 0,015 | 0.30 | 0,25 | Mo: 0,2-0,4 Ni: 0,6-0,9 | |
Luzerako propietate mekanikoak giro-tenperaturan
| Kalifikazioa | Trakzio indarraRm/MPa(>=) | Etekin indarraRp0,2 (MPa) | LuzapenaA4D (%) | Azalera murrizteaZ (%) |
| Gr1 | 240 | 140 | 24 | 30 |
| Gr2 | 400 | 275 | 20 | 30 |
| Gr5 | 895 | 825 | 10 | 25 |
| Gr7 | 370 | 250 | 20 | 25 |
| Gr12 | 485 | 345 | 18 | 25 |
Titaniozko sputtering helburuak
Titaniozko sputter helburuaren tamaina arrunta: Φ100 * 40, Φ98 * 40, Φ95 * 45, Φ90 * 40, Φ85 * 35, Φ65 * 40 etab.
Gainera, bezeroen eskaeren edo marrazkien arabera pertsonaliza daiteke
Xede-baldintzak: garbitasun handia, kristal-ale uniformeak eta trinkotasun ona.
Garbitasuna: %99,5, %99,95, %99,98, %99,995.
Titaniozko Helburua Produkzio-prozesua
titaniozko belakia --- titaniozko lingotean urtu --- proba--- lingotea moztea --- forjaketa --- ijezketa --- zuritzea --- zuzentzea --- ultrasoinu akatsen detekzioa --- paketatzea
Titaniozko helburua Ezaugarriak
1. Dentsitate baxua eta zehaztapen handiko indarra
2. Korrosioarekiko Erresistentzia Bikaina
3. Beroaren eraginarekiko erresistentzia ona
4. Errodamendu bikaina Kriogeniaren propietatearekin
5. Magnetikoa eta Ez-toxikoa
6. Propietate Termiko Onak
7. Elastikotasun modulu baxua
Lotutako produktuak
-
Niobioaren helburua
Produktuaren parametroak Zehaztapena Elementua ASTM B393 9995 leundutako niobio purua industriarako helburu estandarra ASTM B393 Dentsitatea 8,57g/cm3 Garbitasuna ≥99,95% Bezeroaren marrazkien araberako tamaina Ikuskapena Konposizio kimikoko probak, Saiakuntza mekanikoak, Ultrasoinuen ikuskapena, Itxura tamaina R004200, R004200, R04200, R04200, R04200, 2012 , R04261 Gainazala leuntzea, artezketa Teknika sinterizatua, ijetzitua, forjatua Ezaugarri Tenperatura handiko erresistentzia...
-
purutasun handiko forma biribila 99,95% Mo materiala 3N5 ...
Produktuaren parametroak Marka-izena HSG Metalezko eredu-zenbakia HSG-moly xede-maila MO1 Urtze-puntua (℃) 2617 Prozesatzea Sinterizazioa/Forjatu forma Forma bereziak Piezen materiala Molibdeno purua Konposizio kimikoa Mo:> =99,95% Ziurtagiria ISO9001:2015 ASTM B386 estandarra Azalera distiratsua eta lurra Azalera-dentsitatea 10.28g/cm3 Kolore Metalezko Distira Puritatea Mo:> = 99.95% Aplikazioa PVD estaldura-filma beira-industrian, ion pl...
-
Tantalioa Helburua
Produktuaren parametroak Produktuaren izena: purutasun handiko tantalioaren xedea tantalio hutsaren xedea Materiala Tantaloaren garbitasuna % 99,95 min edo % 99,99 min Kolorea Korrosioarekiko oso erresistentea den metal distiratsua eta zilarrezkoa da.Beste izena Ta xede Estandarra ASTM B 708 Tamaina Dia >10mm * lodiera >0.1mm Forma Plana MOQ 5pcs Entrega-epea 7 egun Erabilitako Sputtering Estaldura Makinak 1. taula: Konposizio kimikoa ...
-
Tungsteno Helburua
Produktuaren parametroak Produktuaren izena Tungsteno (W) sputtering helburua W1 kalifikazioa Garbitasun eskuragarria (%) 99,5%, 99,8%, 99,9%, 99,95%, 99,99% Forma: Plaka, biribila, birakaria, hodi/hodi Zehaztapena Bezeroek ASTM B760- estandarra eskatzen duten moduan 07,GB/T 3875-06 Dentsitatea ≥19,3g/cm3 Fusio-puntua 3410°C Bolumen atomikoa 9,53 cm3/mol Tenperatura-erresistentzia-koefizientea 0,00482 I/℃ Sublimazio-beroa 847,8 kJ/mol (25℃ 640 ± 640 ℃ ± 640 urtze-beroa) kJ/mol...
