• burua_pankarta_01
  • burua_pankarta_01

purutasun handiko forma biribila 99,95% Mo materiala 3N5 Molibdenozko sputtering helburua beira estaldura eta dekoraziorako

Deskribapen laburra:

Marka izena: HSG Metal

Modelo zenbakia: HSG-moly target

Kalifikazioa: MO1

Urtze-puntua (℃): 2617

Prozesamendua: Sinterizazioa/ Forjatua

Forma: Forma bereziko piezak

Materiala: molibdeno hutsa

Konposizio kimikoa: Mo:> =99,95%

Ziurtagiria: ISO9001:2015

Araua: ASTM B386


Produktuaren xehetasuna

Produktuen etiketak

Produktuaren parametroak

Marka Izena HSG metala
Modelo zenbakia HSG-moly helburua
Kalifikazioa MO1
Urtze-puntua (℃) 2617
Tramitazioa Sinterizazioa/ Forjatua
Forma Forma bereziko piezak
Materiala Molibdeno hutsa
Konposizio Kimikoa Mo:> =% 99,95
Ziurtagiria ISO9001:2015
Estandarra ASTM B386
Azalera Azalera argitsua eta lurzorua
Dentsitatea 10,28g/cm3
Kolore Distira metalikoa
Garbitasuna Mo:> =% 99,95
Aplikazio PVD estaldura-filma beira industrian, ioi-xaflaketa
Abantaila Tenperatura handiko erresistentzia, purutasun handia, korrosioarekiko erresistentzia hobea

Behean deskribatzen da erabilgarritasun estandarra.Beste neurri eta tolerantzia batzuk eskuragarri daude.

Lodiera

Max.Zabalera

Max.Luzera

.090"

24"

110"

.125"

24"

80"

.250"

24"

40"

.500"

24"

24"

>.500"

24"

 

Lodiera handiagoa lortzeko, plaken produktuak normalean 40 kilogramoko gehienezko pisura mugatzen dira pieza bakoitzeko.

Lodiera

.25"-tik 6"-ra

6"-tik 12"-ra

12"-tik 24"-ra

.090"

± .005"

± .005"

± .005"

> .125

± % 4

± % 4

± % 4

Molibdenozko plaka zabalera estandarraren tolerantzia

Lodiera

.25"-tik 6"-ra

6"-tik 12"-ra

12"-tik 24"-ra

.090"

± .031"

± .031"

± .031"

> .125

± .062"

± 062"

± 062"

Ohar

Xafla ( 0,13 mm ≤ lodiera ≤ 4,75 mm )

Plaka (lodiera > 4,75 mm)

Beste dimentsio batzuk negozia daitezke.

Molibdeno-helburua material industriala da, beira eroalean, STN/TN/TFT-LCD, beira optikoan, ioi-estalduran eta beste industria batzuetan oso erabilia.Egokia da estaldura laua eta bira estaldura sistema guztietarako.

Molibdeno-helburuak 10,2 g/cm3-ko dentsitatea du.Urtze-puntua 2610 °C-koa da.Irakite-puntua 5560 °C da.

Molibdeno-helburuaren garbitasuna: % 99,9, % 99,99

Zehaztapenak: helburu biribila, plaka diana, birakaria

Ezaugarri

Elektrizitatearen eroankortasun bikaina;
Tenperatura altuko erresistentzia;
Urtze-puntu altua, oxidazio- eta higadura-erresistentzia handia.

Aplikazio

Elektrodo edo kableatu material gisa oso erabilia, erdieroaleen zirkuitu integratuan, pantaila lauan eta eguzki panelen fabrikazioan eta beste esparru batzuetan.Aldi berean, wolframioa, tantalioa, niobioa, kobrea, ekoizpen dimentsio zehatzak bezeroen eskakizunen arabera ekoizten ditugu.


  • Aurrekoa:
  • Hurrengoa:

  • Idatzi zure mezua hemen eta bidali iezaguzu

    Lotutako produktuak

    • Tantalioa Helburua

      Tantalioa Helburua

      Produktuaren parametroak Produktuaren izena: purutasun handiko tantalioaren xedea tantalio hutsaren xedea Materiala Tantaloaren garbitasuna % 99,95 min edo % 99,99 min Kolorea Korrosioarekiko oso erresistentea den metal distiratsua eta zilarrezkoa da.Beste izena Ta xede Estandarra ASTM B 708 Tamaina Dia >10mm * lodiera >0.1mm Forma Plana MOQ 5pcs Entrega-epea 7 egun Erabilitako Sputtering Estaldura Makinak 1. taula: Konposizio kimikoa ...

    • % 99,8 titanio purua 7 borobilak sputtering helburuak ti aleazio helburua estaldura fabrika hornitzailearentzat

      % 99,8 titanio purua 7 biribildutako sputter...

      Produktuaren parametroak Produktuaren izena pvd estaldura-makinaren titanio-helburua Titanio-maila (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7, GR12) Aleazio-helburua: Ti-Al, Ti-Cr, Ti-Zr eta abar Jatorria Baoji hiria Shaanxi probintzia Txina Titanio-edukia ≥99,5 (% ) Ezpurutasun-edukia <0,02 (%) Dentsitatea 4,51 edo 4,50 g/cm3 ASTM B381 estandarra;ASTM F67, ASTM F136 Tamaina 1. Helburu biribila: Ø30--2000mm, lodiera 3,0mm--300mm;2. Plaka Helburua: Luzera: 200-500mm Zabalera: 100-230mm Thi...

    • Tungsteno Helburua

      Tungsteno Helburua

      Produktuaren parametroak Produktuaren izena Tungsteno (W) sputtering helburua W1 kalifikazioa Garbitasun eskuragarria (%) 99,5%, 99,8%, 99,9%, 99,95%, 99,99% Forma: Plaka, biribila, birakaria, hodi/hodi Zehaztapena Bezeroek ASTM B760- estandarra eskatzen duten moduan 07,GB/T 3875-06 Dentsitatea ≥19,3g/cm3 Fusio-puntua 3410°C Bolumen atomikoa 9,53 cm3/mol Tenperatura-erresistentzia-koefizientea 0,00482 I/℃ Sublimazio-beroa 847,8 kJ/mol (25℃ 640 ± 640 ℃ ± 640 urtze-beroa) kJ/mol...

    • Niobioaren helburua

      Niobioaren helburua

      Produktuaren parametroak Zehaztapena Elementua ASTM B393 9995 leundutako niobio purua industriarako helburu estandarra ASTM B393 Dentsitatea 8,57g/cm3 Garbitasuna ≥99,95% Bezeroaren marrazkien araberako tamaina Ikuskapena Konposizio kimikoko probak, Saiakuntza mekanikoak, Ultrasoinuen ikuskapena, Itxura tamaina R004200, R004200, R04200, R04200, R04200, 2012 , R04261 Gainazala leuntzea, artezketa Teknika sinterizatua, ijetzitua, forjatua Ezaugarri Tenperatura handiko erresistentzia...