Tantalioa Helburua
Produktuaren parametroak
| Produktuaren izena: purutasun handiko tantalioaren helburua tantalio hutsa | |
| Materiala | Tantalioa |
| Garbitasuna | %99,95 min edo %99,99 min |
| Kolore | Korrosioarekiko oso erresistentea den metal distiratsua eta zilarrezkoa. |
| Beste izena | Ta xede |
| Estandarra | ASTM B 708 |
| Tamaina | Dia > 10 mm * lodiera > 0,1 mm |
| Forma | Planoa |
| MOQ | 5 pieza |
| Entregatzeko epea | 7 egun |
| Erabiliak | Sputtering Estaldura Makinak |
1. taula: Osaera kimikoa
| Kimika (%) | |||||||||||||
| Izendapena | Osagai nagusia | Ezpurutasunak gehienez | |||||||||||
| Ta | Nb | Fe | Si | Ni | W | Mo | Ti | Nb | O | C | H | N | |
| Ta1 | Gainerakoa | 0,004 | 0,003 | 0,002 | 0,004 | 0,006 | 0,002 | 0,03 | 0,015 | 0,004 | 0,0015 | 0,002 | |
| Ta2 | Gainerakoa | 0,01 | 0,01 | 0,005 | 0,02 | 0,02 | 0,005 | 0,08 | 0,02 | 0,01 | 0,0015 | 0,01 | |
2. taula: Baldintza mekanikoak (errezitatutako egoera)
| Kalifikazioa eta tamaina | Errezibitua | ||
| Trakzio indarramin, psi (MPa) | Eten-indarra min, psi (MPa) (% 2) | Luzapena min, % (1 hazbeteko luzera) | |
| Xafla, papera.eta taula (RO5200, RO5400) Lodiera <0,060 "(1,524 mm)Lodiera ≥ 0,060 "(1,524 mm) | 30000 (207) | 20000 (138) | 20 |
| 25000 (172) | 15000 (103) | 30 | |
| Ta-10W (RO5255)Xafla, papera.eta taula | 70000 (482) | 60000 (414) | 15 |
| 70000 (482) | 55000 (379) | 20 | |
| Ta-2.5W (RO5252)Lodiera <0,125" (3,175 mm)Lodiera ≥0,125" (3,175 mm) | 40000 (276) | 30000 (207) | 20 |
| 40000 (276) | 22000 (152) | 25 | |
| Ta-40Nb (RO5240)Lodiera <0,060 "(1,524 mm) | 40000 (276) | 20000 (138) | 25 |
| Lodiera> 0,060 "(1,524 mm) | 35000 (241) | 15000 (103) | 25 |
Tamaina eta garbitasuna
Diametroa: diametroa (50 ~ 400) mm
Lodiera: (3~28mm)
Kalifikazioa: RO5200,RO 5400, RO5252(Ta-2.5W), RO5255(Ta-10W)
Garbitasuna: >=99,95%, >=99,99%
Gure abantaila
Birkristalizazioa: % 95 gutxieneko alearen tamaina: gutxienez 40μm Gainazalaren zimurtasuna: Ra 0,4 max Lautasuna: 0,1 mm edo % 0,10 gehienez.Tolerantzia: diametroaren tolerantzia +/- 0,254
Aplikazio
Tantalo-helburua, elektrodo-material gisa eta gainazaleko ingeniaritza-material gisa, oso erabilia izan da kristal likidoen pantailaren (LCD), beroarekiko erresistentearen korrosioaren eta eroankortasun handiko estalduraren industrian.
Lotutako produktuak
-
% 99,8 titanio purua 7 biribildutako sputter...
Produktuaren parametroak Produktuaren izena pvd estaldura-makinaren titanio-helburua Titanio-maila (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7, GR12) Aleazio-helburua: Ti-Al, Ti-Cr, Ti-Zr eta abar Jatorria Baoji hiria Shaanxi probintzia Txina Titanio-edukia ≥99,5 (% ) Ezpurutasun-edukia <0,02 (%) Dentsitatea 4,51 edo 4,50 g/cm3 ASTM B381 estandarra;ASTM F67, ASTM F136 Tamaina 1. Helburu biribila: Ø30--2000mm, lodiera 3,0mm--300mm;2. Plaka Helburua: Luzera: 200-500mm Zabalera: 100-230mm Thi...
-
purutasun handiko forma biribila 99,95% Mo materiala 3N5 ...
Produktuaren parametroak Marka-izena HSG Metalezko eredu-zenbakia HSG-moly xede-maila MO1 Urtze-puntua (℃) 2617 Prozesatzea Sinterizazioa/Forjatu forma Forma bereziak Piezen materiala Molibdeno purua Konposizio kimikoa Mo:> =99,95% Ziurtagiria ISO9001:2015 ASTM B386 estandarra Azalera distiratsua eta lurra Azalera-dentsitatea 10.28g/cm3 Kolore Metalezko Distira Puritatea Mo:> = 99.95% Aplikazioa PVD estaldura-filma beira-industrian, ion pl...
-
Tungsteno Helburua
Produktuaren parametroak Produktuaren izena Tungsteno (W) sputtering helburua W1 kalifikazioa Garbitasun eskuragarria (%) 99,5%, 99,8%, 99,9%, 99,95%, 99,99% Forma: Plaka, biribila, birakaria, hodi/hodi Zehaztapena Bezeroek ASTM B760- estandarra eskatzen duten moduan 07,GB/T 3875-06 Dentsitatea ≥19,3g/cm3 Fusio-puntua 3410°C Bolumen atomikoa 9,53 cm3/mol Tenperatura-erresistentzia-koefizientea 0,00482 I/℃ Sublimazio-beroa 847,8 kJ/mol (25℃ 640 ± 640 ℃ ± 640 urtze-beroa) kJ/mol...
-
Niobioaren helburua
Produktuaren parametroak Zehaztapena Elementua ASTM B393 9995 leundutako niobio purua industriarako helburu estandarra ASTM B393 Dentsitatea 8,57g/cm3 Garbitasuna ≥99,95% Bezeroaren marrazkien araberako tamaina Ikuskapena Konposizio kimikoko probak, Saiakuntza mekanikoak, Ultrasoinuen ikuskapena, Itxura tamaina R004200, R004200, R04200, R04200, R04200, 2012 , R04261 Gainazala leuntzea, artezketa Teknika sinterizatua, ijetzitua, forjatua Ezaugarri Tenperatura handiko erresistentzia...
